Wissenschaftlicher Mitarbeiter für die Entwicklung von nasschemischen Reinigungsprozessen (m/w/x)
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Enablerfür kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips ?
Arbeiten, wo das Morgen entsteht. ?
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Was darf bei keinem Smartphone fehlen? ?
Genau, der Mikrochip – das Herzstück eines jeden elektronisch gesteuertenSystems. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISSTechnologien gefertigt. ZEISS ist Technologieführer im BereichHalbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisenLithographie-Optiken,Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglichtZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren undenergieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen dasZeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.
Sie verantworten die Beschaffung und Inbetriebnahme einer neuen Reinigungsanlage basierend auf nasschemischen Reinigungsprozessen inkl. Überführung der Anlagen in die Serien-Produktion
Sie werden Prozesse zur Reinigung von Optik- und Mechanik-Komponenten zum Einsatz im UHV-Bereich entwickeln und zur Anwendung in der Serienfertigung qualifizieren
dazu leiten sie die entsprechenden Arbeitspakete und verantworten diese hinsichtlich Timing, Performance und Kosten in Abstimmung mit der entsprechenden Projektleitung
Sie werden die Untersuchung von Oberflächen auf organische, molekulare und partikuläre Kontaminationen anhand analytischer Methoden kontinuierlich weiterentwickeln
Sie werden Fehlerursachen bei Prozessabweichungen und Maschinenproblemen (bei Reinigungsprozessen und Reinigungsanlagen für Mechanik- und Optikbauteile) systematisch abstellen und im Trouble-Shooting-Fall unterstützen
Sie werden Lieferanten von Fertigungsanlagen bei Fragen zu Reinigungs- und Sauberkeitsthemen beraten und vor Ort unterstützen
Sie besitzen ein sehr erfolgreich abgeschlossenes Hochschulstudium in Naturwissenschaften wie beispielweise Chemie oder Physik, idealerweise mit Promotion
Sie haben nachgewiesene Erfahrung in der Entwicklung von komplexen Prozessen
Sie verfügen über Kenntnisse auf dem Gebiet der nasschemischen Reinigungsprozesse und der Oberflächenanalytik (XPS, Restgasanalyse, TOF-SIMS)
Erfahrungen auf dem Gebiet von Ultrahochvakuumtechnik sind von Vorteil
Sie bringen ein hohes Maß an Team- und Kooperationsfähigkeit mit
sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse runden Ihr Profil ab
Your ZEISS Recruiting Team:
Oliver Reith